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產(chǎn)品簡介：CY-MSH300-III-DCDCRF-SS三靶磁控濺射儀是我公司自主研制開發(fā)的一款性價比較高的磁控濺射鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設(shè)備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備，特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。
技術(shù)參數(shù)：
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項目 |
明細 |
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產(chǎn)品型號 |
CY-MSH300-III-DCDCRF-SS |
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供電電壓 |
AC220V，50Hz |
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整機功率 |
6KW |
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系統(tǒng)真空 |
≦5×10-4Pa |
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樣品臺 |
外形尺寸 |
φ150mm |
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加熱溫度 |
≦500℃ |
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控溫精度 |
±1℃ |
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可調(diào)轉(zhuǎn)速 |
≦20rpm |
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磁控靶槍 |
靶材尺寸 |
直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm |
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冷卻模式 |
循環(huán)水冷 |
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水流大小 |
不小于10L/Min |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
直徑φ300mm，高度500mm |
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腔體材質(zhì) |
SUU304不銹鋼 |
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觀察窗口 |
直徑φ100mm |
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開啟方式 |
頂開式 |
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氣體控制 |
1路質(zhì)量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM |
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真空系統(tǒng) |
配分子泵系統(tǒng)1套，氣體抽速600L/S |
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膜厚測量 |
可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ? |
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濺射電源 |
直流電源500W*2,射頻電源500W |
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控制系統(tǒng) |
CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng) |
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設(shè)備尺寸 |
600mm × 650mm × 1280mm |
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設(shè)備重量 |
350kg |
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